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【CMVU】Vision早報!VisionChina機器視覺展2024展位預定、展位圖、展位報價、參展商名單

來源: 聚展網 2024-06-04 11:58:20 141 分類: 機器視覺資訊

近日,成都經緯機械執行董事鄧雷、副總經理蔡磊垚一行蒞臨匯川技術交流訪問,匯川技術聯合創始人唐柱學、印刷包裝行業總經理洪靖軒參加接待。雙方針對食品包裝設備自動化控制技術、工廠智慧能源系統等話題展開深入探討,并簽訂戰略合作協議。雙方達成共識:僅僅依靠傳統的自動化設備已經難以滿足客戶的需求,雙方還應在物聯網、大數據分析、智慧能源管理等領域,助力行業提升效率、降低成本、增強靈活性,增強行業的可持續發展。

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康視達(CST)連續第三年入選為東莞市“倍增企業”。5月21日,東莞市工業和信息化局公布了2024年東莞市“倍增企業”名單,可喜的是CST依舊在名單之上。連續三年入選為東莞市“倍增企業”,這不僅是對CST實力的認可,更是對其未來發展的期許。“倍增計劃”是東莞市為落實國家六部委《關于加快培育發展制造業優質企業的指導意見》,結合本地實際,于2022至2026年實施的一項戰略性新興產業培育計劃。該計劃以“選好選優、培優增強”為原則,旨在通過重點培育一批存量優勢企業,力爭在3至5年內實現規模和效益的成倍增長,為東莞市經濟發展注入新的活力。

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先臨三維發布FreeScan UE Pro2無線高速激光手持三維掃描儀。采用930g輕量化設計,并創新性采用嵌入式邊緣計算模塊實現無線傳輸,配合移動電源,掃描過程中無需連接電腦以及電源線,可實現自由移動,特別是在大型工件的掃描中能夠行動自如,再次革新激光手持式三維掃描儀的應用便攜性。50束交叉藍色激光線,快速掃描全局數據。7束平行藍色激光線,精細掃描局部細節。1束單線藍色激光線,獲取深孔立體數據。雙目攝影測量模塊,鎖定目標全局精度。

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德國西克新品上市microScan3 Pro I/O安全激光掃描儀

近日,新一代安全激光掃描儀——microScan3產品家族的又一次迭代之作:microScan3 Pro I/O上市。具備microScan3產品家族的全部性能優勢:基于數十年在安全激光上的深厚經驗和技術沉淀,microScan3 Pro I/O系列產品在具備結構緊湊的型式設計的同時,可實現高達9米的掃描范圍,275°的掃描角度范圍,即便設備安裝在角落也不會有安全盲區(一般2個安全激光就能實現360°全方位防護)。microScan3 Pro I/O采用SICK新一代多脈沖掃描專利技術:safeHDDM?,由此帶來的突出改進是:安全激光掃描儀在抗干擾性能和測量精度上的質的提升(相對SICK上一代S系列安全激光提高了4倍)!

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“近年中國半導體行業迅猛發展,越來越多的國內裝備商投入半導體檢測和測量設備的開發和研究中。”

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光采集

相機收集光的能力是決定成像質量的最基礎因素之一。相機能收集到的光子越多,成像質量就越好。光的收集效率主要由以下幾個決定。

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量子效率(QE)

結論:在所需波長范圍,更高量子效率將顯著提高科學圖像的成像質量。高量子效率對絕大多數應用來說是至關重要的,我們能收集的光子越多,測量精度就越高,圖像質量也就越好。量子效率(QE)是衡量相機將入射光子轉換為有效電子的指標。例如:假若傳感器的QE為100%,也就是說傳感器暴露于100個光子中,它將產生100個電子信號。決定量子效率的sensor主要分前照式與背照式(如圖1所示)。對于前照式相機來說,傳感器的電子和布線是在光敏硅和入射光子之間,通過上方的微透鏡聚光,光子需穿過中間布線。前照式傳感器這種雖然工藝和制造更簡單,但這種設計通常會損失至少25%的有效光子。另外一種更有效sensor設計是背照式,即傳感器是倒置的,光子直接擊中光敏硅,無需微透鏡,但這就需將硅減薄到光敏~1.1 μm厚的水平,背照式會有更好QE響應。高端科學相機可以通過背照式實現高達95%的QE,當然這也取決于被探測到的光波長(如圖2所示)。在可見光譜的近紅外和紫外區域,傳感器會出現較低的QE響應,特別是在前照式相機。

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像素尺寸

結論:大尺寸的像元賦予更大的感光面積,但通常會犧牲光學分辨率。科學相機的像元尺寸,也被稱為“像素間距”,指的是傳感器上的每個感光像素xy方向的寬度和高度。傳感器像元面積越大,其能夠收集的光子就越多。像元尺寸大一倍,其光的收集能力的增加4倍,因此大尺寸像元是提高相機靈敏度的一個有力方法。然而,像元尺寸的增加可能以成像分辨率為代價,至少分辨率受到光學系統的限制。更大尺寸的像素也能夠容納更多電荷,具有更高的滿井電子容量,因此有更好的動態范圍。

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滿井電子容量

結論:滿井電子容量會對高動態范圍或需高亮度成像的圖像質量有很大的作用。滿井電子容量定義了單個像素飽和前可以保持的最大充電量。對于科學相機來說,用“線性滿井電子容量”來描述會更準確一些,因為不會滿負荷使用存儲光電子的物理容量。這是因為當每個像元開始接近其最大容量時,過多的光電子的存在會導致電荷排斥效應,從而降低像元收集其他光電子的能力,從而影響其線性度(見下一節)。雖然對非科學應用場景不是什么大問題,但這種線性損失對于科學相機來說是不可接受的。可用的滿井容量也取決于相機模式,主要它是由相機的位深度(可用灰度數)與相機增益(從電子到灰度的轉換因子,e-/灰色)的乘積所決定的,位深度和增益都可以在相機參數設置而改變。如想要獲得高動態范圍的成像,高的滿井電子容量就變得很重要,比如在同一圖像中存在很強信號和很弱信號。滿井電子容量也有助于提高信噪比。然而,對需要保持低光水平的應用時,如典型的熒光顯微鏡,滿井電子容量并不是一個重要的因素。

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噪聲

信噪比(SNR)是一個衡量的圖像質量指標。在科學成像中,信噪比指的是接收有用信號的強度和接收干擾信號強度的比值。具體來說,它是在該像素處的接收到信號與總體接收到的噪聲(幀對幀)的比率。高信噪比在精確光測量應用中為關鍵的指標。

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信噪比

結論:信噪比(SNR)是圖像質量的關鍵指標,反映相機信號采集和噪聲性能。信噪比(SNR)是接收到灰度信號除以三個主要噪聲源之和:光子發射噪聲、暗電流和讀取噪聲。可用下式表示:高信噪比表明圖像沒有因為噪聲造成的失真和偽影。信噪比越高,信號越突出,圖像質量越好,預期看到結果的能力也越高。此外,許多分析技術都會一個閾值來定量信噪比,低于這個閾值它們就會表現不佳。關于理想的最小信噪比沒有嚴格的規則,因為這通常取決于樣本、分析技術和應用的需要(圖3探討了不同的信噪比及其相應的圖像質量)。

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光子散粒噪聲

光子散粒噪聲是指每個光子源的光子發射隨機性,包括熒光分子。由于這種隨機發射,對一個恒定信號的連續測量將產生一個已知的平均值的光子計數的分布-稱為泊松分布。為了測量,信號S將隨√S而變化。因此,這是一個隨信號而增長的噪聲源,因此在高信號水平上,光子散粒噪聲將占主導地位。

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讀取噪聲

結論:讀取噪聲是低光成像中的一個重要指標,但在極低光水平下的成像,讀出噪聲的影響差異較小。量子效率QE發揮著更大的作用。讀取噪聲是測量相機中探測信號的不確定性,這主要由讀出速度和電子設計質量決定。ccd相機傳感器具有很高的讀取噪聲(6到10電子),工業CMOS相機會有4到10個電子讀取噪聲。科學CMOS相機通常大約1.0到1.6個電子讀取噪聲。量子效率和讀取噪聲是科學成像中的兩個要考慮的超級重要的指標(圖4進行了兩個指標的探討)。一個0.7e-讀噪聲、80% QE的相機與一個1.0e-讀噪聲、95% QE的相機對比,更高信噪比可以使得高QE相機在所有信號水平獲得高于1光子/像素,如在低光熒光顯微鏡通常從10到100光電子是一個很有挑戰的事情。對于更高的QE相機,對于在10個光電子以上的信號,即使將讀取噪聲增加到1.6e-,也會產生很好的信噪比。然而,進一步將95%QE相機的讀取噪聲從1.0e-降低到0.7e-對這些信號影響不大,10光子的信噪比增加2%,100光子的信噪比增加0.2%。

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暗電流,冷卻器的作用

結論:制冷能抑制暗電流影響,但對于100ms-1s短曝光,深度制冷sensor溫度并不能顯著提升暗電流的能力。但對于>1s的長曝光,對于暗電流抑制,深度制冷必不可少。暗電流是一種熱噪聲,由電子從周圍的硅進入像素阱而引起,就像它們被探測到的光電子一樣。在讀出過程中,一個像素中的暗電流電子的平均數量由“規格表”中的暗電流(以電子/像素/秒為單位)D乘以t,即曝光時間。由于熱電子的收集發生在隨機時間,但以已知的平均速率,這是另一個泊松過程,如光子散落噪聲,所以暗電流的實際噪聲貢獻由:給出相機冷卻是減少暗電流的主要手段,同時也減少了熱像素(單個像素具有異常高的暗電流)。同時對暗電流的顧慮也取決于相機曝光時間。對于10ms或更少的短時間曝光,即使是高暗電流未冷卻的相機也可以提供良好的信噪比,但是對于100ms的曝光,暗電流就發揮作用了,如果未冷卻的相機會大大降低其信噪比。在1s的曝光時,根據暗電流的值,未冷卻的相機已無法有效成像,如下表所示。冷卻程度(sensor所達溫度)并不是重要的因素,因為不同的技術和相機可以在相同的傳感器溫度下實現差異很大的暗電流性能。此外,讀取噪聲通常會對冷卻相機的典型<2s曝光發揮更大的作用。下表中對此進行了探討。

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表1 讀取來自不同相機制造商的基于同一傳感器的三臺相機的噪聲和暗電流比較。
中間: 在規定的曝 光時間內,在檢測信號的10個光電子處的信噪比。
底部: 在規定的曝光時間內,在檢測到的信號的100個光電子處的信噪比。

主BSI的低讀取噪聲和暗電流意味著該相機在所有情況下都領先。-25°C和-45°C冷卻之間的差異,即使是1秒的曝光時間,也被這兩個相機之間的讀取噪聲的差異所抵消。未冷卻的相機只有100ms及以上的靈敏度的一小部分。

斯睿特3D雙激光涂膠檢測系統

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產品案例

VisionChina 2024(上海)>>2024年7月8-10日>>上海新國際博覽中心(SNIEC)VisionChina 2024(深圳)>>2024年10月14-16日>>深圳國際會展中心(寶安新館)

參考資料:

中國(上海)機器視覺展覽會

VisionChina

舉辦地區:上海

展會日期:2026年03月25日-2026年03月27日

開閉館時間:09:00-18:00

舉辦地址:上海市浦東新區龍陽路2345號

展覽面積:40000

觀眾數量:37232

舉辦周期:1年1屆

主辦單位:機器視覺產業聯盟(CMVU)

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來源:聚展網
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